Сверхвысоковакуумный нанотехнологический комплекс НТК-4 НАНОФАБ-100

Подразделение: НОЦ НТ-94

Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

Место расположения: Корпус 14, ауд. 113

Назначение:
Локальное травление поверхности пластин металлов, полупроводников и диэлектриков размером до 100х100 мм сфокусированным ионным пучком с разрешением до 10 нм и рабочим полем до 400х400 мкм. Установка используется для создания микро и наноструктур в любых материалах подложки. Создание микро и наноструктур для нанофотоники и микросистемной техники, наносенсорики.

Основные технические характеристики:
Максимальный размер записываемой топологии 400х400 мкм.
Разрешение максимальное 10 нм.