Установка плазмохимического травления и осаждения ЭТНА-100-ПТ

Подразделение: НОЦ НТ-94

Производитель: НТ-МДТ, г. Зеленоград

Место расположения: Корпус 14

Назначение:
Плазмохимическое травление и очистка поверхности пластин полупроводников и диэлектриков диаметром до 100 мм, удаление фоторезистивных масок. Установка используется для получения микро и наноструктур с помощью плазмохимического травления. Получение микро и наноструктур для создания элементов нанофотоники, наносенсорики и микросистемной техники.

Основные технические характеристики:
Максимальная скорость травления кремния 7 мкм в минуту