Ионно-плазменная установка ННВ-66-И1

Подразделение: НИИ-204

Производитель: Россия

Место расположения: Корпус 7, ауд. 205

Назначение:
Вакуумная ионно-плазменная электродуговая установка предназначена для получения широкого набора многослойных, в том числе композиционных покрытий на основе различных соединений тугоплавких металлов – нитридов, карбидов, боридов, карбонитридов, оксидов. В процессе напыления материал катода с помощью вакуумной дуги переводится в плазменное состояние и в виде плазменных квазинейтральных потоков направляется на поверхность изделия и за счёт протекания плазмохимических гетерогенных реакций образует покрытие

Основные технические характеристики:
Рабочий вакуум 5·10-3 5·10-4 мм.рт.ст.;
Максимальная загрузка 110 кг;
Толщина покрытия от 0,5 до 30 мкм