Универсальная вакуумная установка магнетронного напыления наноструктурных покрытий UNICOAT 600t

Подразделение: НИИ-204

Производитель: Россия, НПФ «Элан-Практик»

Место расположения: Корпус 7, ауд. 205

Назначение:
Универсальная вакуумная установка магнетронного напыления предназначена для получения наноразмерных покрытий различного назначения – высокотемпературных, антикоррозионных, трибологических и др. для широкого спектра изделий. Импульсное магнетронное распыление позволяет снизить тепловую нагрузку на подложку и мишень путём поочерёдного импульсного распыления нескольких мишеней, увеличить плотность разрядного тока, повысив степень ионизации распыляемого вещества до 90 %, а также обеспечивает высокую скорость распыления плёнок сложного состава

Основные технические характеристики:
Предельное значение вакуума в рабочей камере 2·10-3 Па;
Ток разряда каждого магнетрона (0,3 – 20) А;
Толщина покрытия От 10 нм до 30 мкм