Станция лазерной записи «CLWS-200S»

Подразделение: НИЛ-35

Производитель: Институт автоматики и электрометрии СО РАН(Россия)

Место расположения: Корпус 1, ауд. 122

Назначение:
Изготовление дифракционных элементов

Основные технические характеристики:
минимальный размер дифракционной структуры 0,6 мкм;
максимальный размер изготавливаемого ДОЭ 210 мм;
максимальное количество ступенек рельефа 256 (фоторезист);
точность выполнения структуры 0,1 мкм;
Технологии записи: Термохимическая – хром, фоторезист.