Установка плазменного травления – «Каролина 15»

Подразделение: НИЛ-35

Производитель: АО «Эсто-Вакум» (Рос-сия)

Место расположения: Корпус 1, комната №4/22

Назначение:
Ионно-плазменное травление ИПТ: При ионно-плазменном травлении удаление поверхностных слоев материалов осуществляется за счет физического распыления ионами инертных газов или других ионов, химически не реагирующих с обрабатываемым материалом. При этом он находится в контакте с зоной плазмы, а необходимая энергия ионов обеспечивается подачей на материал отрицательного смещения. Для ионной очистки поверхности материалов (удаления адсорбированных частиц) обычно используют ионы с энергией в диапазоне от 20 до 100 эВ, а для ионного травления (удаления слоев основного материала) - от 100 до 1000 эВ. В первом диапазоне распыление осуществляется в режиме первичного прямого выбивания, а во втором - как в режиме первичного выбивания, так и в режиме линейных каскадов.

Основные технические характеристики:
Для ионной очистки 20-100 эВ; Для ионного травления 100-1000 эВ