Установка трехмерного наноконструирования 3D2S

Подразделение: НИЛ-35

Производитель: Германия, (Ганноверский лазерный центр)

Место расположения: Корпус 1, комната №122

Назначение:
Принцип действия установки основан на двухфотонной полимеризации фотополимерного материала под воздействием излучения фемтосекундного лазера ИК-диапазона. Разрешение структурирования с помощью этой установки зависит от топологии реализуемого объекта, но не хуже 500 нм. Предельное разрешение 200нм.

Основные технические характеристики:
Длина волны лазера 780нм;
Размер рабочей области до 10х10мм;
Рабочий материал - негативный фоторезист;
Формат файлов для вывода STL;
Точность перемещения подложки 5нм.