Подразделение: НИЛ-35
Производитель: Германия, (Ганноверский лазерный центр)
Место расположения: Корпус 1, комната №122
Назначение:
Принцип действия установки основан на двухфотонной полимеризации фотополимерного материала под воздействием излучения фемтосекундного лазера ИК-диапазона. Разрешение структурирования с помощью этой установки зависит от топологии реализуемого объекта, но не хуже 500 нм. Предельное разрешение 200нм.
Основные технические характеристики:
Длина волны лазера 780нм;
Размер рабочей области до 10х10мм;
Рабочий материал - негативный фоторезист;
Формат файлов для вывода STL;
Точность перемещения подложки 5нм.
Мы используем файлы cookies для улучшения работы сайта университета и большего удобства его использования.
Более подробную информацию об использовании файлов cookies можно найти здесь,
наше положение об обработке и защите персональных данных – здесь.
Продолжая пользоваться сайтом, вы подтверждаете, что были проинформированы об использовании файлов cookies сайтом университета и
ознакомлены с нашим положением об обработке и защите персональных данных. Вы можете отключить файлы cookies в настройках Вашего браузера.